Examples

• Control techniques for ion beam and deposition rate parameters;
  هـ- للترسيب بالملاط الرقيق القوام:
• Control techniques for ion beam and deposition rate parameters;
  التحكم في الشعاع ومعالجة الأجزاء؛ تفاصيل تصميم مصدر الأيونات؛ الأساليب الفنية للتحكم في الأيونات وبارامترات معدل الترسيب؛ دورات الزمن-الحرارة-الضغط؛
• Control techniques for ion beam and deposition rate parameters;
  الحواسيب الرقمية الإلكترونية التي يبلغ أداؤها النظري المؤلف 000 28 مليون عملية نظرية في الثانية أو أكثر.
• N.B.2 Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
  ملحوظة 2 يمكن استخدام أشعة أيونات منخفضة الطاقة (أقل من 5 كيلوفولط) لتنشيط الترسيب.
• N.B.2 Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
  `2' رقم استحقاق (ك) يساوي 0.25 أو أكثر؛ أو
• B. 1. f. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:
  باء - 1 - و - 2 المعدات المصممة خصيصا لصنع الأغشية أو معالجة أجهزة أشباه الموصلات باستخدام الحزمة الإلكترونية المركزة المنحرفة، أو الحزمة الأيونية أو الحزمة “الليزرية”، والتي يتوافر فيها أي مما يلي:
• Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
  الترسيب بالأبخرة المادية المقاومة للحرارة بمساعدة الأيونات يستخدم مصادر مقاومة للحرارة بصورة كهربائية إلى جانب إطلاق شعاع من الأيونات لإنتاج موجة محكومة موحدة من أنواع الطلاء المتبخرة؛
• b. All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0.01 µcoulomb/mm2 or better;
  ب - جميع المواد المقاومة المصممة للاستعمال مع الحزم الإلكترونية أو الحزم الأيونية، والتي تبلغ حساسيتها 0.01 مايكروكولمب مم2 أو أفضل؛
• Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
  مصطلح “منضدة عارية” يدل على منضدة مستوية أو سطح مستو لا يوجد عليهما أي تثبيتات أو تركيبات.
• The major components of an electromagnetic isotope separator include: a magnetic field for ion-beam diversion/separation of the isotopes, an ion source with its acceleration system, and a collection system for the separated ions.
  وتكون مكوناتها الملامسة لغاز المعالجة مصنوعة من مواد مقاومة للتآكل بسادس فلوريد اليورانيوم أو محمية بطبقة من هذه المواد.