and 2.B.5.g. do not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.
ملحوظة البنود 2-باء-5-أ، و 2-باء-5-ب، و 2-باء-5-هـ، و 2-باء-5-و، و 2-باء-5-ز لا تسري على معدات الترسيب بالأبخرة الكيماوية، أو بالقوس الكاثودي، أو الترسيب بالرش، أو التكسية بالأيونات، أو زرع الأيونات المصممة خصيصا للقطع أو التشغيل الآلي.