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Examples
  • a. Artikel, die speziell für Fertigung, Zusammenbau, Verpackung, Prüfung und Konstruktion von Halbleiterbauelementen, integrierten Schaltungen und Baugruppen entwickelt wurden und eine Mindeststrukturgröße von 1,0 µm haben, einschließlich:
    أ - الأصناف المصممة خصيصا لتصنيع وتجميع وتوضيب واختبار وتصميم أشباه الموصّلات والدوائر المتكاملة والتجميعات التي تتميّز بحجم أدنى يبلغ 1 ميكرومتر، بما في ذلك:
  • Speziell entwickeltes Gerät für die Bearbeitung der Rückseite von Wafern mit einer Dicke von weniger als 100 µm und deren darauffolgende Trennung; oder
    أ-3-أ- المعدات المصممة خصيصا لمعالجة الجزء الخلفي من الموصّلات التي يقل سمكها عن 100 ميكرومتر وعملية فصلها التي تلي ذلك؛
  • a.3.b. Speziell entwickeltes Gerät, um eine Rauheit der aktiven Oberfläche eines bearbeiteten Wafers mit einem 2σ-Wert von maximal 2 µm (Mittigkeitsabweichung (Gesamt-Messuhrausschlag)) zu erzielen;
    أ-3-ب- المعدات المصممة خصيصا لتخشين المساحة المسطحة الفعالة للرقاقات المعالجة وفق مؤشر قراءة كاملة يبلغ 2 ميكرومتر أو أقل؛
  • Positionierungsgenauigkeit in der X-Y-Ebene feiner als +10 µm;
    أ-5-أ-3- دقة التموضع في مسطح المحورين سين وصاد الذي يقل سمكه عن + 10 ميكرومتر؛
  • Es wurde beispielsweise geschätzt, dass wir, wenn wir Sektionen von ungefähr 35 Quadratmikrometern ( Millionsteln eines Meters) bei einer Stärke von 20 Nanometern verwendeten, über1,4 Milliarden Sektionen bräuchten, um nur einen Kubikmillimeter Gewebe vollständig zu rekonstruieren.
    على سبيل المثال، تشير بعض التقديرات إلى أنه إذا كان لنا أننستخدم قطاعاً من نحو 35 ميكرومتر مربع (الميكرومتر واحد على مليون منالمتر) بسمك 20 نانومتر، فإننا سوف نحتاج إلى أكثر من 1,4 مليار قطاعلإعادة البناء الكاملة لمليمتر مكعب واحد من النسيج.