Textbeispiele

• Handling systems, semiconductor wafers Conventional Section: p. 201, 3.B.1.e
  لوحدات “الليزر” شبه الموصلة اسم شائع هو الدايودات “الليزرية”.
• Surface finishing equipment for the processing of semiconductor wafers as follows:
  أ-3- معدات صقل المسطحات اللازمــــة لمعالـــــجة رقاقات أشباه الموصّلات، كما يلي:
• semiconductor wafer-processing Conventional Section: p. 201, 3.B.1.f and p. 202, 3.B.2.e
  ب - صممت للعمل بمعدل تذبذب للمجال المغنطيسي يزيد على 1×10 6 من كمَّات التدفق المغنطيسي في الثانية؛ أو
• Item 62.1(a) does not prohibit furnaces designed for the processing of semiconductor wafers. Such furnaces must, however, be reported to the IAEA.
  ويؤخذ الغاز أو الماء المخصب بالديوتيريوم من أبراج المرحلة الأولى عند نقطة التقاء الجزء الساخن والجزء البارد، وتتكرر العملية في ابراج المرحلة التالية.
• Wafers, semiconductor with function determined Conventional Section: p. 190, 3.A.1.a
  محركات الديزل ذات الخرج العالي هي محركات الديزل التي يبلغ فيها متوسط الضغط الفعال للفرامل 1.8 ميغاباسكال أو اكثر عندما تكون السرعة 2300 دورة في الدقيقة، شريطة أن تكون السرعة المقدرة للمحرك 2300 دورة في الدقيقة أو أكثر.