I design silicon lithography for personal gain.
أصمّم طباعة السليكون الحجريّة للمنفعة الشخصيّة
I design silicon lithography for personal gain.
إنني أصمّم طباعة سيليكون حجرية لمصلحتي الشخصية
Equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (CVD), lithography, mask lithography, masks, and photoresists;
(أ) فولطية الخارج تزيد عن 6 فولط في حمل مقاوم يقل عن 55 أوم؛
Well, yeah, yeah. I mean, it's perfect. They do lithography.
حسنا .. نعم نعم.. أعني أن هذا رائع إنهم يقومون بالطباعة على الحجر
a.l. Equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (CVD), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.
أ-1- معدات ومواد للحفر بالبلازما، وترسيب الأبخرة الكيميائية، والطباعة الكيميائية، والطباعة الكيميائية بالستائر والستائر، ومقاومات الضوء.
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
أ - المواد المقاومة الموجبة المصممة للطباعة الكيميائية على أشباه الموصلات المعدلة (التي رفعت كفاءة أدائها) خصيصا لتستخدم أطوال موجات أقل من 350 نانومتر؛
For excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3.B.1.
كاميرات تكوين الصور التي بها أنابيب لتوضيح الصورة بالخصائص المدرجة في البند 6-ألف-2-أ-2-أ؛
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
(ج) تزيد فولطية الخرج عن 2 فولط في مقاومة قدرها 55 أوم أو أقل (ويناظر هذا خرجا يزيد عن 16 ديسيبيل في نظام مقاومته 50 أوم).
Positive resists for semiconductor lithography Conventional Section: p. 204, 3.C.2.a.
معدات التحديد الآلي للاتجاه المحمولة جوا؛
Resist materials, semiconductor lithography Conventional Section: p. 203, 3.C.2
ي- منظومات الطاقة التي تعمل دون حاجة إلى هواء، المصممة خصيصا لاستخدامها تحت الماء.
