A dry etching process is applied to high-end ultra-fine patterns of semiconductor photo masks.
تطبق عملية النمش الجاف على أنماط غاية في الدقة لنهاية عالية للأقنعة الضوئية لأشباه الموصلات.
A dry etching process is applied to high-end ultra-fine patterns of semiconductor photo masks.
تطبق عملية التنميش الجاف على أنماط غاية في الدقة لنهاية عالية للأقنعة الضوئية لأشباه الموصلات.
