Die Ionenimplantation ist ein Prozess, der in der Halbleitertechnik weit verbreitet ist.

Sie verwenden Ionenimplantation, um die elektrischen Eigenschaften eines Materials zu verändern.

Ionenimplantation ist ein wichtiger Schritt in der Herstellung von Siliziumchips.

Die Ionenimplantation kann die physikalischen und chemischen Eigenschaften der Oberfläche eines Materials deutlich verändern.

Ionenimplantation wird auch zur Herstellung von Solarzellen verwendet.

Gerät, das speziell für die Ionenimplantation bzw. für die mit Ionen oder Photonen verstärkte Diffusion entwickelt wurde und eine der folgenden Eigenschaften aufweist: