Beim Ionenätzen wird die Oberfläche des Materials gezielt entfernt.

Ionenätzen ist eine gängige Methode in der Mikrofabrikation.

Das Ionenätzen kann sehr präzise sein, was es ideal für die Halbleitertechnik macht.

Beim Ionenätzen werden Ionen beschleunigt und auf eine Oberfläche abgeschossen, um Material zu entfernen.