Reaktives Ionentiefenätzen wird in der Halbleitertechnologie verwendet.

Das reaktive Ionentiefenätzen ist eine sehr präzise Methode zum Ätzen von Materialien.

Beim reaktiven Ionentiefenätzen wird ein materialselektives und isotropes Ätzen ermöglicht.

Die Tiefe des Ätzmusters kann durch das reaktive Ionentiefenätzen kontrolliert werden.

Reaktives Ionentiefenätzen bietet die Möglichkeit der Mikro- und Nanostrukturierung.