Chemische Gasphasen-Abscheideverfahren werden in der Materialwissenschaft genutzt.

Die Funktionsweise des chemischen Gasphasen-Abscheideverfahrens basiert auf komplexen chemischen Reaktionen.

Mit dem chemischen Gasphasen-Abscheideverfahren können sehr dünne Schichten präzise aufgetragen werden.

Das chemische Gasphasen-Abscheideverfahren ermöglicht die Herstellung von Hochleistungskomponenten.

In der Halbleiterindustrie wird häufig das chemische Gasphasen-Abscheideverfahren verwendet.