Reaktives Sputtern mittels Magnetron ist eine weit verbreitete Methode in der Materialwissenschaft.

Mit der Technologie des reaktiven Sputtern mittels Magnetrons können dünnere Schichten hergestellt werden.

Das reaktive Sputtern mittels Magnetron hat eine hohe Präzision und Reproduzierbarkeit.

Reaktives Sputtern mittels Magnetron wird häufig in der Herstellung von Halbleiterchips verwendet.

Die Anwendung von reaktivem Sputtern mittels Magnetron hat in den letzten Jahren zugenommen.